Podłoże fotomaski kwarcowej 127 mm × 127 mm do użytku FPD
Aplikacje
Dziedziny procesu fotolitografii, takie jak produkcja układów scalonych, FPD (płaski wyświetlacz panelowy),
MEMS (mikroelektromechaniczne systemy) itp.
Zasada działania
Maska to wzorcowa maska graficzna powszechnie stosowana w fotolitografii wytwarzania mikro-nano.Struktura graficzna
jest tworzony na przezroczystym podłożu przez nieprzezroczystą fotomaskę, a następnie informacja graficzna jest przenoszona do
substrat produktu w procesie ekspozycji.
Cechy
Podłoże fotomaski do stosowania w FPD
| Model / Materiał | Rozmiar | Zdolność przetwarzania |
| 5 cali / kwarc | 127 mm × 127 mm | Szlifowanie, polerowanie, chromowanie, klejenie |
Przebieg procesu
→ Wykrywanie surowców;
→ Szlifowanie zgrubne;
→ Zgrubne polerowanie;
→ Czyszczenie maski;
→ Kontrola wydajności surowców;
→ Pokryte chromem;
→ Testy działania maski;
→ Powłoka fotorezystu;
→ Opakowania;
→ Transport.
Nasze atuty
Jesteśmy producentem.
Dojrzały proces.
Odpowiedz w ciągu 24 godzin roboczych.
Nasz certyfikat ISO
Części naszych patentów
Części naszych nagród i kwalifikacji w zakresie badań i rozwoju
Nasze produkty sprzedawane są na całym świecie. Możesz być spokojny o cały proces naszych produktów.
