Wyślij wiadomość
Obsługiwanych jest do 5 plików, każdy o rozmiarze 10 MB. dobrze
ZEIT Group 86-28-62156220-810 hua.du@zeit-group.com
Uzyskaj wycenę
描述
English French German Italian Russian Spanish Portuguese Dutch Greek Japanese Korean Arabic Hindi Indonesian Vietnamese Persian Polish
描述

Podłoże fotomaski

Uzyskaj wycenę
jakość Podłoże fotomaski Usługa
Dom - Kategorie - Podłoże fotomaski
Kategorie

Sprzęt do powlekania optycznego

Sprzęt do testowania optycznego

Podłoże fotomaski

System pomiaru dwójłomności

Elementy optyczne

Sprzęt do osadzania warstw atomowych

Maszyna do napylania magnetronowego

Sprzęt do wykrywania wad powierzchni

Magnetoreologiczna maszyna do wykańczania

Sprzęt do kontroli płaskości

Sprzęt do kontroli powierzchni

Wyposażenie niestandardowe

Zautomatyzowane rozwiązania linii produkcyjnych

System interferometru laserowego

Cyfrowy autokolimator

Obiektyw interferometru

Zostaw wiadomość

Całkowity 1 Strony
Najnowsze produkty

Nasze produkty sprzedawane są na całym świecie. Możesz być spokojny o cały proces naszych produktów.

  • Chiny Szlifowanie Polerowanie Quartz Photomask Podłoże do FPD i chipów

    Szlifowanie Polerowanie Quartz Photomask Podłoże do FPD i chipów

  • Chiny Szlifowanie Polerowanie Chromowanie 5280 Kwarcowa fotomaska ​​Podłoże 800 mm × 520 mm

    Szlifowanie Polerowanie Chromowanie 5280 Kwarcowa fotomaska ​​Podłoże 800 mm × 520 mm

  • Chiny Podłoże fotomaski kwarcowej 350 × 300 mm do produkcji układów scalonych

    Podłoże fotomaski kwarcowej 350 × 300 mm do produkcji układów scalonych

  • Chiny Podłoże fotomaski FPD 152 × 152 mm do produkcji mikro nano

    Podłoże fotomaski FPD 152 × 152 mm do produkcji mikro nano

  • Chiny Podłoże fotomaski kwarcowej 127 × 127 mm do użytku z płaskim wyświetlaczem

    Podłoże fotomaski kwarcowej 127 × 127 mm do użytku z płaskim wyświetlaczem

  • Chiny Podłoże fotomaski kwarcowej 6 × 6 × 0,25 cala do procesu fotolitografii

    Podłoże fotomaski kwarcowej 6 × 6 × 0,25 cala do procesu fotolitografii

  • Chiny Micro Electro Mechanical Systems 5009 Quartz Photomask Substrat 5 × 5 × 0,09 cala

    Micro Electro Mechanical Systems 5009 Quartz Photomask Substrat 5 × 5 × 0,09 cala

  • Chiny 6 × 6 × 0,12 cala MEMS Chrome Photomask Podłoże Fotorezyst Powłoka

    6 × 6 × 0,12 cala MEMS Chrome Photomask Podłoże Fotorezyst Powłoka