Wyślij wiadomość

Produkty Uzyskaj wycenę

Dom -

ZEIT Group Produkty

Podłoże fotomaski kwarcowej 350 × 300 mm do produkcji układów scalonych
Szlifowanie Polerowanie Chromowanie 5280 Kwarcowa fotomaska Podłoże 800 mm × 520 mm
VIS 520nm 590nm 650nm Wyposażenie systemu pomiaru dwójłomności
Zadrapania Pyły Sprzęt do wykrywania powierzchni półprzewodników Rozdzielczość 1,8 μM
Półprzewodnikowe systemy wykrywania powierzchni Optyczny sprzęt testujący 40x
Przezroczysty system pomiaru dwójłomności żywicy Sprzęt do wykrywania sprzętu w czasie rzeczywistym
Sprzęt do wykrywania wad powierzchni podłoża szklanego 1,8um
Micro Electro Mechanical Systems 5009 Quartz Photomask Substrat 5 × 5 × 0,09 cala
TiO2 Al2O3 ALD Osadzanie warstw atomowych Sprzęt do powlekania optycznego ISO
TiO2 Al2O3 Powłoka optyczna Sprzęt do osadzania ALD ISO
Elementy optyczne z wielowarstwowej folii dielektrycznej Paraboliczne lustrzane sferyczne przetwarzanie powierzchni
6 × 6 × 0,12 cala MEMS Chrome Photomask Podłoże Fotorezyst Powłoka
Petrochemia Nowy przemysł energetyczny Zautomatyzowane rozwiązania linii produkcyjnej do systemu podawania zaślepiającego
Rozwiązania zautomatyzowanej linii produkcyjnej ZEIT do systemu recyklingu czyszczenia
ZEIT Non Standard Equipment Spin Coater dla przemysłu optycznego
Petrochemia Przemysł samochodowy Niestandardowe wyposażenie Optyczna maszyna do polerowania

5 6 8 9 Ostatni, ubiegły, zeszły Całkowity 10 Strony